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又一半導(dǎo)體設(shè)備成功上市科創(chuàng)板

2021-11-23 10:02

光電子技術(shù)和芯片知識(shí)

關(guān)注

最近又一家半導(dǎo)體設(shè)備成功上市科創(chuàng)板，叫盛美半導(dǎo)體。以前知道有這么一家公司，好像是做清洗槽的，一個(gè)做槽子的公司竟然能上市，而且市值接近600億。

再看它的利潤(rùn)：招股書(shū)顯示，盛美半導(dǎo)體2018年、2019年、2020年?duì)I收分別為5．5億元、7．57億元、10億元；凈利分別為9253萬(wàn)元、1．35億元、1．97億元；扣非后凈利分別為7140萬(wàn)元、1．3億元、9243．78萬(wàn)元。

好像利潤(rùn)有點(diǎn)低啊，，不像高科技產(chǎn)品的樣子。今天特意去細(xì)看了一下這個(gè)公司，可能是自己寡聞了，原來(lái)清洗槽也有這么多講究。

盛美半導(dǎo)體主要從事半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體清洗設(shè)備、半導(dǎo)體電鍍?cè)O(shè)備和先進(jìn)封裝濕法設(shè)備等。

盛美半導(dǎo)體研發(fā)出SAPS／TEBO兆聲波清洗技術(shù)和Tahoe單片槽式組合清洗技術(shù)，可應(yīng)用于45nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的晶圓清洗領(lǐng)域，可有效解決刻蝕后有機(jī)沾污和顆粒的清洗難題，并減少濃硫酸等化學(xué)試劑的使用量，在幫助客戶降低生產(chǎn)成本的同時(shí)，滿足節(jié)能減排的要求。

創(chuàng)始人是美國(guó)籍的王暉

不過(guò)這個(gè)公司的高管年紀(jì)都好大啊。

國(guó)內(nèi)從事半導(dǎo)體清洗設(shè)備的廠家，除盛美外，還有北方華創(chuàng)、至純科技等企業(yè)，盛美半導(dǎo)體的產(chǎn)品主要是單晶片清洗設(shè)備，而北方華創(chuàng)通過(guò)收購(gòu)美國(guó)Akrion實(shí)現(xiàn)槽式清洗設(shè)備國(guó)產(chǎn)化，至純科技也是以槽式清洗為主，三者之間的核心產(chǎn)品存在差異，正面競(jìng)爭(zhēng)比較少。