國產芯片制造材料龍頭廠商之一的多氟多發(fā)布公告指出它的高純電子化學品材料已規(guī)模量產，并已正式成為臺積電的供應商，這意味著國產芯片制造材料也已取得突破。

國人對于芯片制造可能更多是光刻機這種設備，然而芯片制造是一條相當長的產業(yè)鏈，業(yè)界人士指出芯片制造產業(yè)鏈包括了八大設備和八大材料，值得高興的是國產芯片制造產業(yè)鏈共同努力下已一步步實現(xiàn)國產化。

在芯片設備方面進展較為迅速，此前業(yè)界人士指出國產芯片設備在清洗機、涂膠顯影機、離子注入機等設備方面都已達到14nm級別，目前正在研發(fā)7nm、5nm的設備，與世界先進水平的差距也比較小了，并且正處于加速追趕中，與全球先進水平的差距在快速縮短。

其中國產芯片制造設備當中，刻蝕機是進展最快的，國產刻蝕機已做到5nm，這也是國產設備中最先進的部分，刻蝕機已獲得臺積電的認可并被它采用，遺憾的是由于種種原因，技術最先進的國產刻蝕機目前只有臺積電采用，三星、Intel等考慮種種因素不愿采用中國產的設備，因此國產刻蝕機在全球市場占有的份額還比較低。

讓人遺憾的恰恰是廣受關注的光刻機拖了后腿，據(jù)稱國產光刻機最先進的也只能達到28nm工藝，這已成為中國芯片制造產業(yè)鏈最薄弱的環(huán)節(jié)，原因在于光刻機是諸多設備當中最復雜的，畢竟ASML的光刻機也是集中歐美日等國先進元件的精華。不過國產光刻機企業(yè)上海微電子連續(xù)斬獲訂單，正為它帶來源源不斷的收入，可望幫助它加速技術研發(fā)，在光刻機技術方面加速追趕ASML。

芯片制造材料可能被國人所忽視，然而材料其實對于芯片制造非常重要，此前三星就因為被日本卡主了光刻膠等材料一度陷入停產恐慌，為此韓國集中全國科研技術研發(fā)光刻膠等材料，迅速解決問題，擺脫了日本的制約。

韓國用兩三年時間研發(fā)出自己的芯片制造材料，說明芯片制造材料也不是美國和日本制約其他國家發(fā)展芯片制造的重要障礙，只要集中力量可以很快突破。

多氟多迅速量產高純電子化學品材料，說明中國在材料研發(fā)方面確實也有厚實的基礎，正因為我們所擁有的扎實基礎，得以迅速研發(fā)相關的芯片制造材料，可以預期其他與芯片制造的材料也將陸續(xù)解決。

中國對芯片制造的重視主要還是近幾年，而這幾年時間確實也在芯片制造產業(yè)鏈方面加速完善，可以預期只要再花幾年時間，國產芯片制造產業(yè)鏈解決了光刻機這個瓶頸之后，國產芯片制造完全自主化就將實現(xiàn)，到那時候誰也無法阻止中國芯片制造的發(fā)展。

目前中國已成為全球第三大芯片制造產能大國，芯片制造工藝也已推進至14nm，7nm工藝在中芯國際的推動下也在加速量產，業(yè)界人士指出一旦中芯國際的7nm工藝量產，那么國內對芯片的需求將有九成得以滿足。

芯片制造產業(yè)鏈的成型，代表著國產芯片的最后一個環(huán)節(jié)即將攻克，這是中國制造的巨大成功，體現(xiàn)了只要堅持艱苦奮斗，誰也擋不住中國制造前進的腳步，自主創(chuàng)新將成為現(xiàn)實。

       原文標題 : 國產芯片制造再獲突破，自主芯片制造產業(yè)鏈一步步完善